iTops PVD ITO 溅射系统
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 深圳市矢量科学仪器有限公司
- 品牌 北方华创
- 型号 iTops PVD ITO
- 产地
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2025/6/5 13:14:29
- 访问次数 504
联系方式：谢泽雨19842703026 查看联系方式
联系我们时请说明是Ky开元集团上看到的信息，谢谢!
| 产地类别 | 国产 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 综合 |
1. 产品概述
iTops PVD ITO 溅射系统,加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力。
2. 设备用途/原理
iTops PVD ITO 溅射系统，加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力，高晶体质量的氮化铝薄膜及优异的薄膜厚度均匀性，占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便，设备稳定，稼动率高，运营成本低。
3. 设备特点
晶圆尺寸 2/4/6 英寸兼容。适用材料 氮化铝。适用工艺 氮化铝缓冲层溅射。适用域 化合物半导体。百科：?半导体溅射系统的原理主要是利用高能离子撞击靶材，使靶材的原子或分子从表面逸出，并沉积在半导体基片上，形成一层薄膜。溅射技术可以分为多种类型，包括直流溅射、交流溅射、反应溅射和磁控溅射等，不同类型的溅射技术适用于不同的应用场景。例如，直流溅射适用于导电材料的镀膜，而交流溅射则适用于导电性较差的材料。反应溅射可以在溅射过程中引入反应气体，以形成特定的化合物薄膜。磁控溅射则通过加入磁场来控制电子的运动路径，提高溅射效率和薄膜质量。
采购中心
Ky开元集团