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Ky开元集团>产品展厅>半导体行业专用仪器>薄膜生长设备>物理气相沉积设备>NEXUS IBD-LDD 离子束沉积设备

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NEXUS IBD-LDD 离子束沉积设备

具体成交价以合同协议为准

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。










冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

1.产品概述:

NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研发的离子束沉积设备,VEECCO凭借25年来在离子束产品域建立导地位,实现当无缺陷的EUV掩模空白

2.产品工艺:

光掩模制造需要高水平的颗粒控制,同时沉积复杂的多层薄膜结构。Veeco的NexusIBD-LDD离子束沉积系统可以应对这一挑战。自1990年代以来,Veeco已成功服务于光掩模市场,多年的学习造就了当先进的系统。IBD-LDD系统是当EUV掩模坯料上的钼(Mo)和硅(Si)多层沉积和钌(Ru)封端层沉积的理想选择,以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。

3.产品优势:

经过生产验证的平台

低的缺陷密度

优异的均匀性和可重复性

高反射率

在同一腔室中沉积多种材料

可以集成到其他过程模块中,集成到集群工具中




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