cmvac ICP等离子刻蚀机 干法刻蚀设备

反应离子刻蚀机主要用于介质薄膜干法刻蚀，包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。

产品详情：

1.气体种类：O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等

2.基片尺寸：zui大支持8英寸，并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片

3.射频电源     ICP电源：13.56MHz，1400W; 偏压电源：13.56MHz，800W

4.工艺温度：10℃到80℃可控

5.传送模式：自动Loadlock传送系统

       成都超迈光电科技有限公司，为国家标准拟定单位、创新型中小企业、省专精特新企业、新经济双百企业，已通过GB/T与GJB双体系认证。

      超迈光电公司致力于真空镀膜、等离子刻蚀、人工晶体材料和特殊装备的技术提升，具有全系列涂层服务装备和检测手段，已申请国家zhuanli60余项，软件著作权50余项，拟定国家标准2项，行业标准1项，为中国物理学会固体缺陷专家委员单位，全国电热装备标准化委员会单位，已形成工业级、科研级和特殊级三大产品系列，公司在南充高新区(顺庆高新区)建有超迈智能产业园，一期已完成3.5万平方米厂房和配套办公生活设施建设，具备强大的研发和制造能力。