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VACUUBRAND今日故事分享——低温泵的再生

阅读:531      发布时间:2024-6-28
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今天的主人公

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姓名:lemens Todt

职业:瑞士联邦理工学院(ETH)固态物理实验室的博士生
导师:Wegscheider教授
研究主题:用于制造III/V半导体异质结构的晶体生长材料
研究重点:半导体与超导体的相互作用
应用方向:优化量子计算机的性能

 

今天,小编和lemens Todt 进行了一场面对面交流,给大家讲讲实验过程中新奇的小故事~

Q
Hi,lemens Todt,先和大家分享一下你研究的主题吧~ 

Todt: 我们研究小组目前从事于晶体生长的材料,主要用来制造III/V半导体异质结构

其中二维电子气可是我们的专长~至于我的研究重点是半导体与超导体的相互作用,其结果可能对量子计算机产生很重要的影响。

 

Q
什么是半导体异质结构?

Todt: 半导体异质结构是一种特殊的半导体结构,它是由两层以上不同的半导体材料薄膜依次沉积在同一基座上形成,这些材料具有不同的能带隙。

 

Q
那在实验中使用什么样的方法来制造半导体异质结构呢?

Todt: 对于半导体异质结构,我们使用分子束外延(MBE)生长方法——一种物理气相沉积工艺。使用此方法的显著优势是:可以利用原子精度生长不同材料的复杂层序列。这种方法适用于低熔点金属,如铟或镓。它们被蒸发后在真空环境下,在载体层(称为衬底或晶片)的表面形成定向分子流。一个原子接一个原子以所需的结构沉积在晶片上并结晶成薄膜。

而在我研究的领域内,超导层是以铌为基础的。这种金属的熔点极高,高达2500°C。在这个过程中,整个系统升温,外来原子从钢中扩散出来。因此,样品可能会在这个过程中损坏。随后,我们决定使用另一种沉积工艺————磁控溅射。在这个工艺中,金属被放置在一个腔室中,我们向其中注入氩气。在1 x 10-3 mbar5 x 10-2mbar的压力下,点燃氩气等离子体。氩离子撞击涂层材料的表面,这些被敲除的颗粒然后迁移到晶片上并沉积。

而在这个环节中,真空泵发挥了很重要的作用。

 

Q
可以讲讲真空泵在其中的作用吗?

Todt: 首先,我建造了一个新的磁控溅射系统(骄傲脸),虽然很有挑战性,但这让人兴奋!

其次,我们亲自组装了低温泵,低温真空泵属于吸附泵,也是气体结合泵,该泵以1500 L/s的速度从磁控溅射系统中吸入氩气。在泵内部,表面被冷却到几开尔文,分子和原子可以像在冰箱里一样凝结在上面。一旦低温泵“满载”,就必须对其进行再生。接着,另一个真空泵开始发挥作用——前置泵。在此过程中,气体通过前置泵释放并泵出,当低温泵被抽空时,泵和腔室必须达到必要的真空度,在该真空度下低温泵可以再次冷却。

 

Q
听起来低温泵的再生很重要,为什么呢?

Todt: 我们期望得到尽可能纯净的产物,当低温泵再生时,来自前置泵的污染物可能会进入系统中,例如空气中的水、油等。我们希望使用绝对干净的前置泵来避免这些污染。

过去,我们为此测试了各种技术:我们尝试使用涡轮泵作为前置泵。但是涡轮泵的轴承会随着时间的推移因振动而损坏。所以我们尝试了螺杆泵VACUU·PURE10

 


Q
VACUU·PURE是如何成功的?

Todt:首先,我们精确地研究螺杆泵VACUU·PURE 10是否可以在我们的工厂使用。其次,我们正在寻找一种坚固耐用且高纯度的真空泵:其基本压力必须至少为10-2 mbar。此外,需要足够大的抽速来处理从低温泵逸出的气体。当然,同样重要的是,它是绝对无油和无颗粒的。

VACUU·PURE符合所有这些要求。我们在低温泵的试验箱上测试了该泵。螺杆泵没有出现故障。并且从质谱仪中看到,它没有将油和其他碳氢化合物或磨损带入系统。


磁控溅射系统上的VACUU·PURE®螺杆泵

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 一起再认识下VACUU·PURE

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  • 10^-3mbar的极限真空

  • 最大抽度为10 m³/h

  • 100%无油,不含碳氢化合物

  • 无磨损,无颗粒

  • 非常适合低温泵的再生

  • 适用于泵送氩气等轻质气体

  • 设计紧凑

  • 方便移动

  • 远程操作

 

选择VACUUBRAND螺杆泵,让你的实验和Todt的实验一样无忧无虑。

 

 

 

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