VTC-5RF五靶头等离子射频磁控溅射仪

产品概述：

VTC-5RF五靶头等离子射频磁控溅射仪是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比组合。

主要特点：

• 多种溅射靶头及电源可选，自由组合，具体请致电我公司销售部。 
• 根据所使用的电源（DC或RF），可以沉积金属或非金属材料。 
• 一个旋转开关可以依次激活溅射头，可在真空或等离子体环境中自动切换，不影响真空度。 
• 可以安装五种不同材料的靶材，每个靶头可单独设置溅射时间功率等参数，用于生长不同成分的薄膜。 
• 可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。 
• 可选配设备控制软件，用电脑控制溅射的所有参数。

溅射腔体：

• 真空腔体采用304不锈钢制作 
• 腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H  (105 L) 
• 铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口

溅射头&样品台：

• 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层
• 溅射腔体内安装有电动挡板 
• 溅射距离:溅射距离可调
• 溅射角度:溅射角度可调 
• 实验时，需要将靶材和靶材的铜垫片用导电银浆粘合粘合，（可在本公司购买导电银浆） 
• 可以单独订购RF连接线作为备用
• 设备需要一台水冷机，用于靶头冷却

样品台：

• 直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。 
• 样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜 
• 样品台可以加热，高温度可达600℃（根据配置不同可能会有变动，具体请咨询销售部）

真空系统：

• 安装有KF40真空接口 
• 真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（参考值，具体请点击） 
• 可在本公司选购各种真空泵

进气：

• 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶 
• 设备前面板上装有一气流调节旋钮，方便调节气流

靶材：

• 所要求靶材尺寸：直径为25mm,大厚度3mm 
• 可在本公司选购各种靶材

薄膜测厚仪（可选）：可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

净重：60Kg（不包括泵)

质量认证：CE认证

使用提示：

• 此设备为DIY设备，参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通
• 为了得到的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N） 
• 在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 
• 要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面 
• 超声波清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥（4）真空烘箱除去水分。 
• 等离子清洗（详细参数点击下面图片）：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。 
• 制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。

警告：

• 注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。 
• 气瓶上应安装减压阀（设备标配不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
• 溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶