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当前位置：北京亚科晨旭科技有限公司>>微纳加工平台-图形发生>>电子束曝光>> CRESTEC超高分辨率电子束光刻EBL（CABL-UH series）
Electron Beam Lithography System（EB
| 产地类别 | 进口 | 价格区间 | 150万-200万 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 电子/电池 |
超高分辨率电子束光刻EBL
Ultrahigh Resolution EB Lithography (CABL-UH series)
纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供 的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统。
超高分辨率的电子束光刻CABL-UH系列的型号包括：
CABL-UH90 (90keV) 、CABL-UH110 (110keV) 、CABL-UH130 (130keV)
技术参数：
加速电压：高130keV
单段加速能力达到130keV，尽量减少电子枪的长度
超短电子枪长度，无微放电
电子束直径＜1.6nm
小线宽＜7nm
双热控制，实现超稳定直写能力
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