一代的TESCAN--场发射扫描电镜给用户带来了的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等）...

S8000G是TESCAN新S8000系列扫描电镜的第yi个新成员，是yi款超高分辨双束FIB-SEM系统，它可以提供的图像质量，具有强大的扩展分析能力，并能以...

S8000 FE-SEM的优点：?新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力?*配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样...

追求ji致性能！完成具挑战性的纳米分析工作。TESCAN推出了全新yi代S8000系列扫描电镜，目前包括：S8000型超高分辨场发射扫描电镜和S8000G型镓离...

RIE反应离子刻蚀采用模块化设计，可满足III/V半导体和Si加工工艺领域的的灵活应用。 SENTECH SI 591可应用于各种领域的蚀刻工艺中，能够完成多种...

EVG810LT是一款主要用于Si-Si直接键合和SOI键合的预键合系统， 广泛应用于MEMS制造、晶圆级良好封装和SOI系统以及化合物半导体等方面。目前，可以...

EVG805DB是一款主要用于薄基片加工领域键合分离设备。广泛应用于存储器，CMOS，3D-TSV，功率器件（如IGBTs），化合物半导体（如高亮度LEDs或R...

SI 500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，利用ICP高密度等离子源来沉积电介质薄膜。可在极低温度下（ 100ºC）沉积高质量SiO2, S...

EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图...

纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层；&#16...

纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层；纳米压印光栅；莲花效应；光子带隙...

多用途的纳米光刻系统eLINE Plus被广泛用于大学和研究中心，该系统有很多多功能附件可供用户选择，满足用户对电子束光刻机多功能性的要求。除具有专业的电子束光...

PIONEERTM集成了电子束曝光及成像分析双功能，是高校和科研人员的理想选择。从理念上，PIONEERTwo是一个全新的*的设备，真正意义上实现了电子束曝光和...

通过参与好的端研究项目，通过和其他电子显微镜以及显微分析的制造商的合作，TESCAN致力于持续不断的改进产品以使其保持在微纳技术创新解决方案领域内的竞争力。本着...

原子力显微镜AFM应用：应用于科研和工业界各领域，涵盖了聚合物材料表征，集成光路测量，材料力学性能表征，MEMS制造，金属/合金/金属蒸镀的性质研究，液晶材料性...

FERA3 XM是一款由计算机全控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

FERA3 GM是一款由计算机*控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

shi jie*个*集成式Xe等离子源聚焦离子束扫描电子显微镜----FERA3，提供了超高离子束束流（zui高束流为2µA），其溅射速度比Ga离子源...

OLS4500是一款集成了光学显微镜、激光显微镜和扫描探针扫描显微镜（SPM）功能于一体的新型纳米检测显微镜，可以实现从50倍到高100万倍的超大范围的观察和测...

EVG500系列键合机主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层；纳米压印光栅；莲花效应...