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目录:江苏雷博科学仪器有限公司>> 实验室光刻机

实验室光刻机
  • 实验室光刻机
参考价 面议
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  • 型号
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 无锡市
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更新时间:2025-06-18 18:58:27浏览次数:1605评价

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实验室光刻机参数:1.曝光面积:160mm*160mm。2.曝光分辨率:接触式曝光0.8um-1um。3.对准精度:±1-1.5um。4.光源强度:35mW/cm2。5.UV光源:进口LED模块。
  实验室光刻机产品参数 :
 
  1.曝光面积:160mm*160mm
 
  2.曝光分辨率:接触式曝光0.8um-1um
 
  3.对准精度:±1-1.5um
 
  4.光源强度:35mW/cm2
 
  5.UV光源:进口LED模块
 
  6.曝光中心波长:365nm
 
  7.光源寿命:1万小时,光源平行性:≤2°
 
  8.曝光分辨率:接触式曝光0.8um-1um
 
  9.照度不均匀性:≤3%
 
  10.曝光设定:定时
 
  11.可执行曝光模式:真空接触、硬接触、压力接触、接近式
 
  12.间隙设定方式:数字设定曝光间隙0-1200um
 
  13.可调,可自动分离和消除间隙
 
  14.样片、掩模版相对移动范围:X:±5mm,Y:±5mm,0=±6°
 
  15.掩模版找平方式:球气浮自动找平
 
  16.可支持掩模版尺寸:3"x3"、4"x4"、5"x5"、7"x7"各一件
 
  17.标配承片台:2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
 
  18.标准配件可兼容样片厚度:0.1-5mm,其他尺寸可定制
 
  19.对准系统:光学+CCD,显微倍数:放大倍率:150倍-720倍可调
 
  20.双物镜可调距离范围:30mm-120mm

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