电子半导体纯水设备维护保养

电子半导体纯水设备的维护保养需结合多维度管理策略，具体要点如下：

一、日常维护要点

1.?滤芯监测与更换?

每批次制水后检查PP棉滤芯颜色变化，发黄面积超1/3时立即更换；反渗透膜安装在线电导率仪，产水电阻率下降15%即触发预警。

前置过滤器（如石英砂、活性炭）定期反冲洗（1-3天/次），石英砂每3-6个月检查磨损情况，活性炭6-12个月更换。

2.?压力参数管理?

每日记录进水与浓水压力差，压差超过0.15MPa优先检查保安过滤器，压力表指针进入红色区域超2小时自动停机。

3.?密封性检查?

每周执行O型圈润滑保养，采用“眼看、手摸、纸测、保压”四步法检测微渗漏。

二、反渗透（RO）系统维护

1.?清洗周期判断?

产水量下降10%-15%、脱盐率下降5%-10%或压差增加10%-15%时需清洗，一般3-6个月/次。

2.?化学清洗流程?

使用专用清洗液循环清洗1-2小时，重度污染可延长浸泡时间，最后大流量冲洗30-60分钟去除污染物，冲洗水pH需控制在6.5-7.5。

三、EDI模块维护

1.?前置过滤器维护?

定期更换滤芯，确保EDI模块免受污染。

2.?模块再生与清洗?

通过电化学反应去除杂质，使用专用清洗剂按手册操作，关注电导率异常升高现象。

四、离子交换树脂管理

1.?再生周期?

树脂交换容量下降时需再生，通常1-3个月/次，再生液（酸/碱）浓度、流速需严格把控。

2.?更换标准?

树脂破碎率达40%或多次再生后性能未恢复时更换。

五、周期性深度保养

1.?季度维护?

紫外线灯管强制更换（9000小时）、EDI模块极水流量调节、储水罐CIP清洗（0.1%过氧乙酸循环30分钟）。

2.?年度大修?

反渗透膜离线分段清洗、泵体拆解维护、管路系统臭氧与巴氏杀菌交替消毒。

六、环境与水质管控

1.?运行环境?

保持设备干燥清洁，湿度控制防止微生物滋生。

2.水质监测?

每日检测电导率、TOC等参数，异常时触发预警机制。

七、停机维护策略

长期停用时排空储水并消毒，重启前检查水路电路，放水15分钟确认水质正常后再启用。

通过以上多维度维护体系，可有效延长设备寿命3-5年，降低突发故障率80%。