使用 NexION 5000 ICP-MS测定高纯氧化钕中的稀土杂质
简介 稀土元素 (La、Ce ( 、 REE Pr、 ) Nd 包括镧系元素 、Pm、Sm、 Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、 Tm、Yb和Lu)以及Sc和Y。 如今 术领域扮演着重要角色 ,这些金属元素在手机 。由于稀土元素的效力和价格与其纯度息息相关 、电视、LED灯泡、风力涡轮机等多种现代技 , 因此生产超高纯度的稀土氧化物至关重要。
氧化钕(Nd2O3)就是这样一种稀土元素,其主要用作玻璃和陶瓷的着色 剂,是生产金属钕和钕铁硼强磁性合金的原料。在镁合金或铝合金中添加 1.5%-2.5%纳米氧化钕可以提高钕合金的高温性能、气阻和耐腐蚀性,因 此也被广泛用于航空航天材料 其中高纯度Nd和Nd2O3扮演着重要的角色 。此外,钕还广泛用做磁盘驱动器的超磁体 。以上这些应用钕元素的纯度有 , 着高的要求,因此,针对钕元素痕量杂质的检测能力尤为重要。长期以 来 已成为 ,电感耦合等离子体质谱 测量高纯稀土化合物中杂质的x技术 (ICP-MS)因其低浓度检测能力广受认可 。 , 战是克服基质的 然而,通过ICP- 多原子离子干扰 MS分析高纯度稀土氧化物中稀土元素痕量浓度的主要挑 (MO+、MOH+、MH+、MOH2 +)。
消除分子离子干扰的常用方法是将基质元素与分析物分 离。这种分离通常通过液-液萃取、离线色谱分离或利用 ICP-MS的进样技术来完成, 但这些方法往往耗时耗力 。
另一种解决方案是在ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪中将分析物与基质分离,最 佳方法是在反应池之前放置一个额外的全尺寸四极杆 极杆尺寸很重要,因为这会影响仪器达到< 1 amu质量分 。四 辨率的能力,而无需增加四极杆频率,否则会导致长期漂 移。池前有一个额外四极杆,仅容许目标分析物质量进入 池中,同时过滤所有其他质量,这是三重和多重四极杆仪器设计。为了解决多原子离子干扰,可以使用反应 气体,例如纯氨气(NH3)、氧气(O2)或氢气(H2), 与碰撞/反应池中的干扰或分析物离子发生反应,从而消 除干扰影响 体(例如氨气 。 ) 因此 的仪器非常有利 ,拥有能够长时间运行高度反应性纯气 。通过使用配备真正四极 能力 杆池的 ,确保反应气体不会形成新干扰 ICP-MS能够控制池内反应,进一步增强干扰消除 ,从而在这些挑战性 应用中满足背景当量浓度(BEC)和检出限(DL)要求。
在本应用文献中,珀金埃尔默的NexION® 5000多重四极 杆 杂质 ICP , - 使用多重四极杆模式分析了 MS将直接用于测定高纯氧化钕基质中的稀土元素 14种稀土元素杂质,并通过纯反应气体增强干扰消除,并辅助检测超痕量杂质的浓度
实验 样品和标准溶液制备 称取约0.200 g(精确到0.0001 g)氧化钕(99.999%,长 3 春应用化学研究所 mL 55% HNO , 3( 中国吉林 TAMAPURE )至50 -AA mL -10 PFA ,55 瓶中 %, , Tama 加入 Chemicals 容至50 mL , 。 日本 分析前 )辅助溶解 ,将上述溶液稀释至最终 。然后使用超纯水将溶液定 Nd2O3浓度 为500 ppm。
使用外部校准法分析高纯氧化钕样品溶液中的 元素。校准标准品使用10 ppm多元素稀土元素标准品 14种稀土 ( 0.02 珀金埃尔默公司 、0.1、1、10、 , 20 美国康涅狄格州谢尔顿 和50 μg/L制备,最终酸组分为 )以浓度 1% HNO3。使用加标1 ppb REE的500 ppm Nd2O3基质溶液 进行质量控制。
由于样品中没有铯(Cs)或铼(Re)杂质,并且Cs和 Re不会与NH3或O2发生反应,因此使用Cs和Re作为内标。 内标使用1000 ppm Cs和Re储备标准品(珀金埃尔默公 司 动添加 )制备 。并在线添加到所有标准品和样品中,无需手动添加
仪器 珀金埃尔默的 NexION 5000 多重四极杆 ICP-MS 在 NexION 5000产品说明1中有详细描述,使用该仪器并采 用标准、MS/MS和质量转移模式执行所有分析。 通用池中使用NH3和O2反应气体,结合动态带宽调谐, 主动防止池中形成新干扰并解决干扰问题。由于大多数 REE很容易与氧气反应形成MO+,因此在许多情况下使 用氧气作为反应气体 量以提高性能。使用了 ,而部分分析物则使用纯氨进行测 MS/MS和质量转移模式。在 MS/MS模式下,Q1和Q3设置为相同质量,干扰与反应 气体发生反应。在质量转移模式下,Q1和Q3设置为不同 质量 量。 , 在池中没有任何气体的标准模式下测量了一些没有 其中分析物作为与反应气体反应的子离子进行测 质谱干扰的元素。所有仪器参数列于表1。
……
结论 NexION 5000多重四极杆ICP-MS能够使用纯氨气解决500 ppm 量转移模式进行 Nd2O3溶液中 Tb分析 Tb、 , Dy 因为这种分析物与 和Ho的质谱干扰问题 NH3 。 的反应性 使用质 高。由于Dy和Ho与NH3的反应性较低,并且受干扰的 NdOH+可以与NH3聚集到更高质量数,因此使用MS/MS 模式来分辨这些离子的干扰。 分析中观察到的出色性能得益于: • 真正四极杆通用池具有动态带宽调谐,能够使用100% 纯反应气体,例如氨气,为分析浓缩Nd基质中的Ho、 Tb和Dy提供干扰清除能力; • 多重四极杆模式,确保主动控制池中反应,提高分析 性能和控制反应,提供一致的结果; • NexION 5000 ICP-MS稳定的仪器设计可以分析浓缩和 具有挑战性的基体,例如高纯Nd。
相关产品
免责声明
- 凡本网注明“来源:Ky开元集团”的所有作品,均为浙江兴旺宝明通网络有限公司-Ky开元集团合法拥有版权或有权使用的作品,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的,应在授权范围内使用,并注明“来源:Ky开元集团”。违反上述声明者,本网将追究其相关法律责任。
- 本网转载并注明自其他来源(非Ky开元集团)的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品第一来源,并自负版权等法律责任。
- 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。