产品推荐:气相|液相|光谱|质谱|电化学|元素分析|水分测定仪|样品前处理|试验机|培养箱


Ky开元集团>技术中心>解决方案>正文

欢迎联系我

有什么可以帮您? 在线咨询

涂胶显影冷水机在半导体行业的热控解决方案

来源:无锡冠亚智能装备有限公司   2025年07月10日 13:31  

在半导体制造的光刻工艺流程中,涂胶显影环节作为连接晶圆预处理与曝光工艺的关键步骤,其温度控制精度直接决定了光刻胶涂层质量、图案转移精度及芯片良率。涂胶显影冷水机作为该环节的核心温控设备,通过稳定的低温输出、流量调节及快速的动态响应,为涂胶机、显影机的关键部件提供持续热管理,确保光刻胶在涂布、烘烤、显影等子流程中保持稳定的物理化学特性。

638774590979717508818.jpg


  涂胶显影工艺对温度的敏感性源于光刻胶属性。因此,涂胶显影冷水机的核心任务是将与光刻胶接触的关键部件(如涂布头、吸盘、显影液喷嘴)温度控制在工艺要求的范围内,并在工艺切换时实现快速温变响应。

  涂胶显影冷水机的技术设计围绕“高精度”与“高稳定性”两大核心展开。其制冷系统多采用变频压缩机与板式换热器组合,通过PID+模糊控制算法实时调节制冷剂流量,配合铂电阻传感器,实现温度波动的稳态控制。在结构设计上,设备采用全密闭循环系统,循环液(通常为去离子水或专用防冻液)在L不锈钢管路中流动,避免杂质污染;同时配备多级过滤装置,防止颗粒物堵塞涂布头微小流道。针对涂胶显影机的空间限制,冷水机多采用紧凑型集成设计,占地面积可控制,且支持嵌入式安装,直接与主机共用冷却回路。

  在涂胶环节的热控方案中,冷水机需服务于涂布头与晶圆吸盘。涂布头内部设有流道,冷水机通过精度的流量调节阀控制循环液流速,将涂布头温度稳定在23℃,确保光刻胶在喷出前保持恒定粘度。此外,冷水机还需为涂胶后的“软烘”工序提供冷却支持:软烘阶段晶圆被加热至90-120℃以去除溶剂,冷却时冷水机需在将吸盘温度从100℃降至25℃,避免光刻胶因缓慢降温发生二次聚合。

638774579821521841345.jpg


  显影环节的热管理聚焦于显影液与晶圆的温度协同。显影液在喷嘴喷出前需经冷水机预冷至25℃,这要求冷水机具备快速的负荷调节能力——当显影机切换不同批次晶圆(如从8英寸换为12英寸)时,显影液用量瞬间增加,冷水机需在2秒内提升制冷量以抵消显影液带入的热量。同时,显影腔室内的晶圆吸盘需保持与显影液一致的温度,防止显影液接触晶圆后因温差产生局部对流,导致图案边缘模糊。

  涂胶显影冷水机的选型需紧密结合工艺参数与设备特性。先需明确温度控制范围,主流机型通常覆盖10-50℃,但针对特殊光刻胶(如化学放大胶),需选择可扩展至5-60℃的宽温机型。

  在半导体洁净室环境中,涂胶显影冷水机的安全设计同样重要。设备需采用低噪声压缩机与无滴漏结构,避免对洁净室微环境造成干扰;循环系统需具备防腐蚀能力,防止光刻胶残留导致的管路堵塞。

随着半导体制程向3nm及以下突破,涂胶显影冷水机通过学习不同批次光刻胶的温度响应曲线,自动优化控制参数,使工艺切换时的温度稳定时间缩短。


免责声明

  • 凡本网注明“来源:Ky开元集团”的所有作品,均为浙江兴旺宝明通网络有限公司-Ky开元集团合法拥有版权或有权使用的作品,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的,应在授权范围内使用,并注明“来源:Ky开元集团”。违反上述声明者,本网将追究其相关法律责任。
  • 本网转载并注明自其他来源(非Ky开元集团)的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品第一来源,并自负版权等法律责任。
  • 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。
企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618