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ALD原子层沉积紧凑、经济型

具体成交价以合同协议为准

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联系我们时请说明是Ky开元集团上看到的信息,谢谢!


北京盈思拓科技(Instonetech) 有限公司是材料研究领域的技术服务提供商。 Instone是Institute、Instrument、Instant的缩写,代表公司秉承专业、高效的经营理念,为科研用户提供技术服务。

公司深耕国内科研市场近十年,以中科院等专业院所背景的技术力量为依托, 为国内各大科研机构及材料研究客户提供科研仪器设备和专业技术服务。公司以代理国内外材料化工方向的仪器设备为核心业务,产品覆盖材料制备、表征、光、热、 电、磁等研究领域。

公司在提供专业仪器设备的基础上,根据客户的不同需求,提供“从0到1”的咨询和建设服务(实验室设备及家具布局、通风、洁净及气路等),为新能源电池、电子陶 瓷、半导体材料、高分子材料等用户提供一站式解决方案。

此外,公司旗下拥有友研精密加工平台,并拥有专业的技术工程师为实验设备提供 系统集成服务,提升科研实验的自动化水平,为用户提供增值服务。



技术服务、一般项目:技术开发、技术咨询、技术交流

设备介绍:
该款ALD原子层沉积设备,特别适用于科研用户的小型台式设备。它经济实用、操作简单、质量稳定可靠、售后耗材费用极低、维修便捷、容易操作。它已经在ALD专家教授实验室被广泛使用。

研发团队介绍:
该设备是由哈佛著名ALD团队Roy G. Grodon教授组的教授们研发出来的。 
Roy G. Gordon院士,美国哈佛大学化学系Thomas D. Cabot教授。研究领域涉及应用数学、物理、化学和材料科学。在应用数学领域发展了特殊函数(Airy, Bessel, Weber, Dawson, Morse等)有效近似计算方法,并应用于量子力学和化学动力学等领域。在物理化学领域,提出了“Gordon-Kim”势函数,可用于精确计算分子间相互作用力。在材料科学领域,自80年代后,Roy Gordon院士致力于研究化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)的前驱物及工艺,发展了一系列可用于生长纯金属、金属氧化物、氮化物和硫化物等的前驱物,并应用于工业生产。目前工业界应用的Roy Gordon院士发明的技术方法包括:CVD制备氧化锡/二氧化硅多层膜结构用于节能窗玻璃;快速ALD制备纳米Al2O3/SiO2多层膜用于滤光器件;ALD制备氮化钛纳米薄膜用于计算机芯片中铜、铝导线的扩散势垒;CVD制备ITO薄膜应用于薄膜太阳能电池;CVD制备氮化铝薄膜应用于场致发光显示器。

设备特点:
1.该设备尺寸小,体积小,特别适合有高真空、高敏感材料的研究,无专业的洁净室要求,最小的型号可以直接放到手套箱里面操作。也可以根据需要和手套箱建立不同形式的连接方式;
2.设备适合科研级别研究,最小可做2英寸的衬底; 
3.可以进行粉末包裹;
4.可以在现场从热型升级为等离子体型的选型
5.可以根据需求定制多达近百个衬底的样品台。
感兴趣请立即联系我们。

用户案例:
哈佛大学、赫尔辛基大学(ALD起源地)、西北大学、剑桥大学(英国)、牛津大学、莱斯大学、英属哥伦比亚大学(加拿大)、ENS-Paris(法国、高等师范学院)、国立材料科学研究所(日本,多台)、早稻田大学(多台)、东京大学、北京量子研究院、北京大学、、布里斯托大学(英国)、谢菲尔德大学等等


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