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目录:深圳市天创美科技有限公司>>测厚仪>>电镀膜厚检测仪>> 半导体镀层厚度检测分析仪

半导体镀层厚度检测分析仪
  • 半导体镀层厚度检测分析仪
参考价 179000
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准
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≥1
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  • 品牌 其他品牌
  • 型号
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 深圳市
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更新时间:2025-07-10 11:08:17浏览次数:102评价

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应用领域 环保,建材/家具,电子/电池,汽车及零部件,综合
半导体镀层厚度检测分析仪
是专为半导体行业打造的精密检测设备。它运用先进的检测技术,如X射线荧光光谱或椭偏测量等,能以高的精度,快速、无损地测量半导体芯片及器件上各类镀层厚度。仪器具备高分辨率和良好的重复性,可精准捕捉微小厚度变化。广泛应用于半导体制造、研发等环节,助力把控产品质量,提升生产良率与性能稳定性。

半导体镀层厚度检测分析仪

深圳市天创美科技有限公司销售产品包括X射线荧光光谱仪(含能量色散和波长色散型)(XRF)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP)、原子荧光光谱仪(AFS)、原子吸收分光光度计(AAS)、光电直读光谱仪(OES)、气相色谱仪(GC)、液相色谱仪(LC)等。产品主要应用领域有电子电器、五金塑胶、珠宝首饰(贵金属及镀层检测等)、玩具安全(EN71-3等),有害物质(ROHS和卤素)、建材(水泥、玻璃、陶瓷等)、合金(铜合金、铝合金、镁合金等)、冶金(钢铁、稀土、钼精矿、其它黑色及有色金属等)、地质采矿(各种矿石品位检测设备)、塑料(无卤测试等)、石油化工、岭土、煤炭、食品、空气、水质、土壤、、商品检验、质量检验、人体微量元素检验等等。总之销售的仪器设备应用于元素分析,化合物测试,电镀镀层厚度检测。

以下是X荧光光谱仪测试电镀镀层的仪器简介:

镀层检测:

常见金属镀层有:

 镀层

 

基体

Ni

Ni-P

Ti

Cu

Sn

Sn-Pb

Zn

Cr

Au

Zn-Ni

Ag

Pd

Rh

Al

Cu


Zn


Fe

SUS

 

单层厚度范围:

金镀层0-8um,

铬镀层0-15um,

其余一般为0-30um以内,

可最小测量达0.001um。

多层厚度范围:

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

镀层层数为1-6层

镀层精度相对差值一般<5%。

镀层成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。

镀层分析优势:分析PCB金手指最小尺寸可达0.2mm

单层分析精度,以Ni举例:(相对差值)

 Ni层厚度(um)

保证精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

元素成分分析:

镀液分析,目前常见镀液元素分析有:金、银、锡、铜、镍、铬、锌。

ROHS 和无卤检测,高性能SDD探测器可以检测无卤,实现镀层与环保一机多用。

金属成分分析,在检测ROHS同时可检测金属中其他各元素成分含量。

检测精度:

Cr,Cd,Hg,Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, W, Au, Ag, Sn等重金属

检测限达1ppm。

对这些金属测试分析稳定的读取允许差值本仪器已达到下列标准:

A. 检测含量大于5%的元素稳定的测试读取相对差值小于1%

B. 检测含量在0.5~5%的元素稳定的测试读取相对差值小于2%

C. 检测含量在0.1~0.5%的元素稳定的测试读取相对差值小于5%

D. 检测含量低于0.1%的元素测试读取相对差值变化率小于10%

测量精度:

1)精度(单层):

                              测厚仪的检测精度表

Ni层厚度(um)

精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

    测试方法: 在相同的操作条件下,对同一标准样板进行5次检测,检测到的平均数据与标样板的实际数据作比较。检测精度为检测平均值与标准样片实际值之差(平均误差)

2)两层及以上:

  两层及以上的首层精度符合单层的测试结果,但是第二层以上比较复杂,要根据上面一层的厚度来决定。在一层厚度小于2um时,一层和二层的测试精度基本符合单层的精度,参照如下的测试报告 一层金标样厚度0.101um,第二层镍的标样厚度为4.52um。

    一层厚度在2~5um时会大大降低第二层的和第三层的测试精度,第二层的误差率会在5~10%,第三层的误差率小于15%。

重复性:

保证重复性值:±5%

    重复性的检测应在仪器校准后: 在相同的操作条件下,使用相同的检测样板做连续重复检测,连续测量必须在同一检测点位置使用一同样片间隔60秒,测量一共进行10次,每次测量值与10次平均值进行对比。

重复性=平均误差÷平均值×100* %.



半导体镀层厚度检测分析仪

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