美国OKI/METCAL电烙铁MX-500/MX-5200/MX-5000手柄线MX-RM3E

METCAL电烙铁DFP-CN4/DCP-CN4/DFP-CN5/DCP-CN5/DFP-CN6详细介绍

高性能电子束曝光机是一款高性能的纳米光刻系统，拥有完整200mm尺寸的光刻能力，这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。

EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，

PIONEER Two将专业电子束曝光设备和电子成像系统所有的先进性能，融合成一套独立的成套系统。多功能性、稳定性、用户友好性操作，使PIONEER Two系统...

探索超越电子束曝光功能的纳米工程系统超高分辨电子束曝光、成像及纳米工程系统纳米加工领域的瑞士

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。先进纳米科技提供;的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（E...

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（E...

电子束光刻系统特点1.采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪2.出色的电子束偏转控制技术3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（address size）可达0....

ContourGT-K 3D光学显微镜是表面轮廓仪功能和价值的标准。该系统具有各种2D / 3D测量，高分辨率成像和用户友好的界面，该系统以紧凑的封装和紧凑的占...

ContourX-500光学轮廓仪是用于快速，非接触式3D表面度量的世界上全面的自动化台式系统。该系统集成了布鲁克专有的倾斜/倾斜光学头，可以*编程，以在一定角...

ContourX-200光学轮廓仪将其特性，可自定义的选项以及易用性完美融合，可提供yi 流的快速，准确和可重复的非接触式3D表面度量。

ContourX-100光学轮廓仪以佳的价格为准确和可重复的非接触式表面计量树立了新的*。小尺寸系统采用流线型封装，可提供的2D / 3D高分辨率测量功能，

布鲁克作为三维表面测量与观察业界的ling dao者，提供从微观如MEMS（微机电系统）到宏观如发动机腔体等不同大小样品的快说非接触式分析。

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作的方法之一。

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作的方法之一。

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作的方法之一。

EVG®850LT SOI和直接晶圆键合的自动化生产键合系统，自动化生产键合系统，适用于多种融合/分子晶圆键合应用

850 SOI的自动化生产键合系统适用于多种融合/分子晶圆键合应用。SOI晶片是微电子行业有望生产出更快，性能更高的微电子设备的有希望的新基础材料。晶圆键合技术...

810LT LowTemp™等离子激活系统；适用于SOI，MEMS，化合物半导体和先进基板键合的低温等离子体活化系统