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产地类别 | 进口 | 价格区间 | 面议 |
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应用领域 | 综合 |
MINUK可评价nm级的透明的异物?缺陷,一次拍照即可瞬时获得深度方向的信息,可非破坏?非接触?非侵入的进行测量。且无需对焦,可在任意的面进行高速扫描,轻松决定测量位置。
日本Otsuka大塚OPTM series显微分光膜厚仪-成都藤田科技提供
● 非接触、非破坏式,量测头可自由集成在客户系统内
● 初学者也能轻松解析建模的初学者解析模式
● 高精度、高再现性量测紫外到近红外波段内的反射率,可分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率、k:消光系数)
● 单点对焦加量测在1秒内完成
● 显微分光下广范围的光学系统(紫外 ~ 近红外)
● 独立测试头对应各种inline定制化需求
● 最小对应spot约3μm
● 可针对超薄膜解析nk
量测项目
● 反射率分析
● 多层膜解析(50层)
● 光学常数(n:折射率、k:消光系数)
膜或者玻璃等透明基板样品,受基板内部反射的影响,无法正确测量。OPTM系列使用物镜,可以物理去除内部反射,即使是透明基板也可以实现高精度测量。此外,对具有光学异向性的膜或SiC等样品,也可不受其影响,单独测量上面的膜。
应用范围
● 半导体、复合半导体:硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、介电常数材料
● FPD:LCD、TFT、OLED(有机EL)
● 资料储存:DVD、磁头薄膜、磁性材料
● 光学材料:滤光片、抗反射膜
● 平面显示器:液晶显示器、薄膜晶体管、OLED
● 薄膜:AR膜、HC膜、PET膜等
● 其它:建筑用材料、胶水、DLC等
规格式样
(自动XY平台型)
OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
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波长范围 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
膜厚范围 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
测定时间 | 1秒 / 1点以内 | ||
光径大小 | 10μm (最小约3μm) | ||
感光元件 | CCD | InGaAs | |
光源规格 | 氘灯 卤素灯 | 卤素灯 | |
尺寸 | 556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自动XY平台型的主体部分) | ||
重量 | 66kg(自动XY平台型的主体部分) |
量测案例
半导体行业 - SiO2、SiN膜厚测定案例
FPD行业 - 彩色光阻膜厚测定
FPD行业 – 用倾斜模式解析ITO构造
日本Otsuka大塚OPTM series显微分光膜厚仪-成都藤田科技提供