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日本Otsuka大塚 薄膜离线型扫描膜厚仪
参考价: 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 产品型号
  • OTSUKA/日本大塚 品牌
  • 代理商 厂商性质
  • 成都市 所在地

访问次数:237更新时间:2025-04-15 11:36:00

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产品简介
产地类别 进口 价格区间 面议
应用领域 综合
日本Otsuka大塚 薄膜离线型扫描膜厚仪-成都藤田科技提供
采用线扫描方式检测整面薄膜 硬件软件均为创新设计 作为专业膜厚测定厂商,提供多种支援 实现高精度测量实现高速测量 不受偏差影响 可对应宽幅样...
产品介绍

日本Otsuka大塚 薄膜离线型扫描膜厚仪-成都藤田科技提供

 

日本Otsuka大塚 薄膜离线型扫描膜厚仪

 

产品信息

特点

● 全面高速高精度进行薄膜等面内膜厚不均一性检测

● 硬件&软件均为创新设计

● 作为专业膜厚测定厂商,提供多种支援

● 实现高精度测量

● 实现高速测量(500万点以上/分)

 

 

 

产品规格

测量范围 0.1~300 μm
测量宽度 250 mm
测量间隔 1 ms~
设备尺寸(W×D×H) 459×609×927 mm
重量 60 kg
功耗 AC100 V±10% 125 VA

 

测量例

250mm宽的薄膜案例

 

 

核心特点

  1. 微区测量能力:最小光斑直径3μm,搭配自动XY平台(200×200mm),实现晶圆、FPD(如OLED、ITO膜)等微小区域的精准厚度分布映射。

  2. 跨行业适用性:专为半导体(SiO?/SiN膜)、显示面板(彩色光阻)、DLC涂层等行业设计,支持粗糙表面、倾斜结构及复杂光学异向性样品的分析。

  3. 安全与扩展性:区域传感器触发防误触机制,独立测量头支持定制化嵌入,满足在线检测(inline)与实验室研发需求。

日本Otsuka大塚 薄膜离线型扫描膜厚仪-成都藤田科技提供

 

  1. 非破坏性高速测量:采用显微分光技术,1秒内完成单点对焦与测量,支持从紫外(230nm)到近红外(1600nm)广波长范围,覆盖1nm至92μm膜厚需求,满足半导体、光学材料等高精度场景。

  2. 透明基板技术:反射对物镜设计,物理消除基板内部反射干扰,实现玻璃、SiC等透明或异向性基板上的高精度膜厚测量,支持50层以上多层膜解析。

  3. 智能建模与易用性:内置初学者模式,简化光学常数(n/k)建模流程,支持宏功能自定义测量序列,可无缝集成自动化产线。



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