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成都藤田科技有限公司
中级会员·1年您现在的位置： 成都藤田科技有限公司>>日本大塚Otsuka>> 日本Otsuka大塚FE-5000椭偏仪可在紫外波长
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- 中国四川省成都市郫都区创智东二路58号绿地银座A座1118
- 个性化：
- www.fujita-cd.cn
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产品简介
| 产地类别 | 进口 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 综合 |
采用线扫描方式检测整面薄膜 硬件软件均为创新设计 作为专业膜厚测定厂商，提供多种支援 实现高精度测量实现高速测量 不受偏差影响 可对应宽幅样...
产品介绍
日本Otsuka大塚FE-5000椭偏仪可在紫外波长-成都藤田科技提供
产品信息
特点
● 可在紫外和可见（250至800nm）波长区域中测量椭圆参数
● 可分析纳米级多层薄膜的厚度
● 可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量Ellipso光谱
● 通过可变反射角测量，可详细分析薄膜
● 通过创建光学常数数据库和追加菜单注册功能，增强操作便利性
● 通过层膜贴合分析的光学常数测量可控制膜厚度/膜质量
测量项目
测量椭圆参数（TANψ，COSΔ）
光学常数（n：折射率，k：消光系数）分析
薄膜厚度分析
用途
半导体晶圆
栅氧化膜，氮化膜
SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，poly-Si，ZnSe，BPSG，TiN
光学常数（波长色散）
复合半导体
AlxGa（1-x）多层膜、非晶硅
FPD
取向膜
等离子显示器用ITO、MgO等
各种新材料
DLC（类金刚石碳）、超导薄膜、磁头薄膜
光学薄膜
TiO2，SiO2多层膜、防反射膜、反射膜
光刻领域
g线（436nm）、h线（405nm）、i线（365nm）和KrF（248nm）等波长的n、k评估
原理
包括s波和p波的线性偏振光入射到样品上，对于反射光的椭圆偏振光进行测量。s波和p波的位相和振幅独立变化，可以得出比线性偏振光中两种偏光的变换参数，即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。
产品规格
型号 | FE-5000 |
|---|---|
样品尺寸 | 200x200毫米 |
入射（反射）的角度范围 | 45至90° |
入射点直径*2 | 关于φ1.2sup*3 |
测定波长范围*5 | 250至800纳米 |
平台驱动方式 | 手动/自动 |
装载机兼容 | 可 |
尺寸，重量 | 1300（W）×900（D）×1750（H）mm 约350公斤*7 |
*1可以驱动偏振器，可以分离不感带有效的位相板。
*2取决于短轴角度。
*3对应微小点（可选）
*4它是使用VLSI标准SiO2膜（100nm）时的值。
*5可以在此波长范围内进行选择。
*6光源因测量波长而异。
*7选择自动平台时的值。
测量示例
以梯度模型分析ITO结构[FE-0006]
作为用于液晶显示器等的透明电极材料ITO（氧化铟锡），在成膜后的退火处理（热处理）可改善其导电性和色调。此时，氧气状态和结晶度也发生变化，但是这种变化相对于膜的厚度是逐渐变化的，不能将其视为具有光学均匀组成的单层膜。
以下介绍对于这种类型的ITO，通过使用梯度模型，从上界面和下界面的nk测量斜率。
考虑到表面粗糙度测量膜厚度值[FE-0008]
当样品表面存在粗糙度（Roughness）时，将表面粗糙度和空气（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模拟为“粗糙层"，可以分析粗糙度和膜厚度。以下介绍了测量表面粗糙度为几nm的SiN（氮化硅）的情况。
使用非干涉层模型测量封装的有机EL材料[FE-0011]
有机EL材料易受氧气和水分的影响，并且在正常大气条件下它们可能会发生变质和损坏。因此，在成膜后立即用玻璃密封。以下介绍在密封状态下通过玻璃测量膜厚度的情况。玻璃和中间空气层使用非干涉层模型。
使用多点相同分析测量未知的超薄nk[FE-0014]
为了通过拟合最小二乘法来分析膜厚度值（d）需要材料nk。如果nk未知，则d和nk都被分析为可变参数。然而，在d为100nm或更小的超薄膜的情况下，d和nk是无法分离的，因此精度将降低并且将无法求出精确的d。在这种情况下，测量不同d的多个样本，假设nk是相同的，并进行同时分析（多点相同分析），则可以高精度、精确地求出nk和d。
日本Otsuka大塚FE-5000椭偏仪可在紫外波长-成都藤田科技提供
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