现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU180P/H无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU300P/H无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU600P/H无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU1218P/H无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU20N18P无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

现货库存：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵MU30N18P无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry7E无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry15E无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry30E无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry36E无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry60E无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

中村供货：KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry100E无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry300E无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry7G无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry15G无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry30G无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。

KASHIYAMA日本樫山工业真空泵NeoDry36G无油干式设计：采用无润滑油机械结构，可避免介质污染，适用于超洁净工艺环境，如半导体晶圆制造等。